Die Arbeitsgruppe 7.14 »EUV-Nanometrologie« (https://www.ptb.de/cms/ptb/fachabteilungen/abt7/fb-71/ag-714.html) beschäftigt sich u. a. mit der Entwicklung neuer Mess- und Analysetechniken mit Synchrotronstrahlung zur Charakterisierung von Schichtsystemen und nanostrukturierten Oberflächen z. B. aus der Halbleiterindustrie. Im Rahmen der Promotion sollen neue Messmethoden entwickelt werden, die die Bestimmung von nanostrukturierten Oberflächen ermöglichen, die für die Optik- und Halbleiterindustrie relevant sind. Dies erfordert die Erarbeitung neuer Ideen, die u. a. aus den folgenden Aufgaben bestehen. - Konzeption und Erweiterung neuer Messmethoden mittels elastischer Streuung und Fluoreszenzemission - Untersuchung der Verwendbarkeit von Licht-Materie-Wechselwirkungssignalen geringer Intensität zur Verbesserung der Genauigkeit bei der Charakterisierung komplexer 3D-Nanostrukturen - Weiterentwicklung von Methoden zur Datenanalyse und -auswertung, um die Empfindlichkeit der Methoden zu erhöhen und Unsicherheiten zu reduzieren - Umfassende numerische Modellierung der Licht-Materie-Wechselwirkung, in der Techniken wie Maschine Learning, parallel computing und moderne statistische Methoden eingesetzt werden, um so genannte "virtuelle Experimente" zu optimieren - Publikation und Präsentation der wissenschaftlichen Ergebnisse - Möglichkeit der wissenschaftlichen Unterstützung für verschiedene europäische Drittmittelprojekte aus der Optik- und Halbleiterindustrie